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プローブ法によるヘリウムICP-MSインターフェイス領域の計測

プローブ法によるヘリウムICP-MSインターフェイス領域の計測

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カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-256

グループ名: 【全国大会】平成12年電気学会全国大会論文集

発行日: 2000/03/21

タイトル(英語): Measurements of interface region in helium ICP mass spectrometer

著者名: 薮田 泰伸(東京工業大学),沖野 晃俊(東京工業大学),堀田 栄喜(東京工業大学)

著者名(英語): Hironobu Yabuta(Tokyo Institute of Technology),Akitoshi Okino(Tokyo Institute of Technology),Eiki Hotta(Tokyo Institute of Technology)

キーワード: 誘導結合プラズマ|ラングミュアプローブ|誘導結合プラズマ質量分析法

要約(日本語): 現在,最高感度を持つ元素分析装置であるアルゴン誘導結合プラズマ質量分析装置のいくつかの欠点を改善するため,本研究ではヘリウム誘導結合プラズマ質量分析用インターフェイスを製作した。そして,ラングミュアプローブを用いてインターフェイス内部の電子温度と電子密度を測定した。その結果,インターフェイス内部では大気圧中に比べ電子密度が大きく減少している事などが明らかとなった。そこでインターフェイス内にプラズマを引き込む際に同時に吸い込んでいる空気の影響なども無視できないと考えられるので,トーチの先端とサンプラーの先端の間の距離(サンプリング深さ)を変化させ測定を行った。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 67 Kバイト

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