パルスバイアス印加時におけるRFプラズマからの熱流束の測定

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-257

グループ名: 【全国大会】平成12年電気学会全国大会論文集

発行日: 2000/03/21

タイトル(英語): Determination of Heat Flux from RF Plasma with Pulsed Bias

著者名: 古関 代司(岩手大学),高木 浩一(岩手大学),藤原 民也(岩手大学)

著者名(英語): Daiji Koseki(Iwate University),Koichi Takaki(Iwate University),Tamiya Fujiwara(Iwate University)

キーワード: RFプラズマ|熱流束|イオンフラックス|パルスバイアス

要約(日本語): 異方性結晶の複屈折を利用したレーザ干渉法を用いて、RFプラズマから負のパルスバイアスを印加した電極上に置かれた基板への熱流束を測定した。その結果、パルスの繰返し周波数の増加と共に基板に入る熱流束は増加し、0ppsでは投入電力の約0.4%であるのに対し、800ppsでは約0.95%となった。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 57 Kバイト