RF-PCVD法によるダイヤモンド状炭素成膜の基礎研究～RFプラズマ発光スペクトルの測定について～

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-265

グループ名: 【全国大会】平成12年電気学会全国大会論文集

発行日: 2000/03/21

タイトル(英語): Basic Study of Diamond Liked Carbon Films by Radio Frequency Plasma-enhanced Chemical Vapir Deposition~Luminescence Spectrum of Radio Frequency Plasma-enhanced~

著者名: 中野心哉 (日本大学),大庭彰信 (日本大学),鈴木薫 (日本大学),中田順治 (日本大学)

著者名(英語): Nakano/Shinya (College of Science and Technology ,Nihon Univ),Ohba/Akinobu (College of Science and Technology ,Nihon Univ),Suzuki/Kaoru (College of Science and Technology ,Nihon Univ),Nakata/Junji (College of Science and Technology ,Nihon Univ)

キーワード: RF?PCVD法|ダイヤモンド状炭素

要約(日本語): 　人工ダイヤモンドの合成法は、高圧合成法と低圧合成法がある。前者は粒子状のダイヤモンドが成長し、後者は膜状のダイヤモンドが成長する。高品質の膜状ダイヤモンドを成長させることが可能ならば様々な分野に応用が期待される。著者らはRF?PCVD法により原料ガスをプラズマ化させ成膜を行い、DLC薄膜の成膜条件と成膜状態の関係について研究を進めており、パルス状のプラズマを生成することで膜質が変化することが確認できている。本稿では成膜時のプラズマに注目し、プラズマの発光スペクトルを測定することでプラズマがどのような状態であるのかを検討した。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 88 Kバイト