静電的制御による粉体流を用いたパルスプラズマの発生

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-280

グループ名: 【全国大会】平成12年電気学会全国大会論文集

発行日: 2000/03/21

タイトル(英語): Electrostatic Control of Powder Injection for Pulsed Plasma

著者名: 石原 秀俊(東京工業大学),川崎 圭厚(東京工業大学),野澤 秀暢(東京工業大学),黒田 淳(東京工業大学),劉源興 (東京工業大学),安岡 康一(東京工業大学),石井 彰三(東京工業大学)

著者名(英語): Hidetoshi Ishihara(Tokyo Institute of Technology),Yoshihiro Kawasaki(Tokyo Institute of Technology),Hidenobu Nozawa(Tokyo Institute of Technology),Jun Kuroda(Tokyo Institute of Technology),Yangsing Liu(Tokyo Institute of Technology),Koichi Yasuoka(Tokyo Institute of Technology),Shozo Ishii(Tokyo Institute of Technology)

キーワード: 粉体|静電的制御|Zピンチ|集束電極

要約(日本語): 真空中の電極間に粉体流を注入し、パルス大電流放電で生成する新しいＺピンチ方式の研究を進めている。粉体を安定かつ確実に電極間に供給する技術が重要であるが、これまでは制御が不完全でＺピンチの再現性・繰り返し動作に問題があった。本研究ではまず静電加速型粉体供給装置において集束電極を付加した電界分布の調整により粉体流の空間分布、数密度の制御性を飛躍的に向上させることを提案した。また、印加するパルス電圧をコンデンサ放電発生方式から、パルス幅が任意に可変できる高電圧リレーを用いる方式に改良した。以上の成果を取り入れた粉体供給装置を用いて、制御された粉体流存在時のパルス大電流放電現象の観測を行った。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 77 Kバイト