光照射による金属／フタロシアニンLB膜界面の帯電機構の評価

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-096

グループ名: 【全国大会】平成12年電気学会全国大会論文集

発行日: 2000/03/21

タイトル(英語): Interfacial electrification process in phtalocyanine Langmuir-Blodgett Film by photoirradiation

著者名: 土田 雅基(東京工業大学),辻田 亘(東京工業大学),真島 豊(東京工業大学),岩本 光正(東京工業大学)

著者名(英語): Masaki Tsuchida(Tokyo Institute of Technology),Wataru Tsujita(Tokyo Institute of Technology),Yutaka Majima(Tokyo Institute of Technology),Mitsumasa Iwamoto(Tokyo Institute of Technology)

キーワード: 表面電位法|界面|時定数

要約(日本語): 今まで我々は、表面電位法を用いて暗状態及び明状態における帯電特性を測定し、金属／フタロシアニンLB膜界面近傍に存在する空間電荷層や電子状態分布を求めてきた。更に容量?電圧特性から空乏層幅を見積もり表面電位の測定結果と比較検討した結果、空間電荷層と空乏層幅の間に相関関係がある事、界面準位を介した電荷授受が数百秒オーダーである事を示してきた。今回は、表面電位法を用いて膜電位の光過渡応答特性を解析し、時定数という観点から空間電荷の電荷授受機構について考察することにした。その結果、緩和時間が時間に依存し、容量?電圧測定より求めた電荷授受オーダーとほぼ一致していることがわかった。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 83 Kバイト