NaCl基板上に作製されたVOPc薄膜の熱処理時間による結晶形態の変化

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-099

グループ名: 【全国大会】平成12年電気学会全国大会論文集

発行日: 2000/03/21

タイトル(英語): Transitions of Crystal Morphology with Thermal Treated Time for VOPc Thin Film Prepared on NaCl Substrate

著者名: 伊藤 康行(愛知工業大学),伊藤慎也 (愛知工業大学),古橋 秀夫(愛知工業大学),吉川 俊夫(愛知工業大学),前田 昭徳(愛知工業大学),内田 悦行(愛知工業大学),小嶋 憲三(愛知工業大学),大橋 朝夫(愛知工業大学),落合 鎮康(愛知工業大学)

著者名(英語): Yasuyuki Ito(Aichi Institute of Technology),Shinya Ito(Aichi Institute of Technology),Hideo Furuhashi(Aichi Institute of Technology),Toshio Yoshikawa(Aichi Institute of Technology),Akinori Maeda(Aichi Institute of Technology),Yoshiyuki Uchida(Aichi Institute of Technology),Kenzou Kojima(Aichi Institute of Technology),Asao Ohashi(Aichi Institute of Technology),Shizuyasu Ochiai(Aichi Institute of Technology)

キーワード: バナジルフタロシアニン薄膜|NaCl基板|熱処理時間|結晶形態

要約(日本語): 非線形光学材料はレーザ光の強電界下で非線形応答を示す。非線形光学材料を用いた薄膜の2次、3次非線形光学強度については、その薄膜の分子の配向性に依存する。本研究の目的は、分子線エピタキシー装置を用いて作製された薄膜の分子の配列および配向性の制御とエピタキシー成長される薄膜の大型化である。今回はNaCl基板上に作製されたVOPc薄膜の熱処理時間による結晶形態の変化について検討した。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 88 Kバイト