PMMA-(t-Bu)nVOPcホスト-ゲスト膜の３次非線形光学特性

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-119

グループ名: 【全国大会】平成12年電気学会全国大会論文集

発行日: 2000/03/21

タイトル(英語): Third Order Nonlinear Optical Properties of Thin Films Doped with Soluble Vanadyl-phthalocyanine in PMMA

著者名: 設楽 俊孝(愛知工業大学),中野 寛之(愛知工業大学),古橋 秀夫(愛知工業大学),吉川 俊夫(愛知工業大学),前田 昭徳(愛知工業大学),内田 悦行(愛知工業大学),小嶋 憲三(愛知工業大学),大橋 朝夫(愛知工業大学),落合 鎮康(愛知工業大学)

著者名(英語): Toshitaka Shidara(Aichi Institute of Technology),Hiroyuki Nakano(Aichi Institute of Technology),Hideo Furuhashi(Aichi Institute of Technology),Toshio Yoshikawa(Aichi Institute of Technology),Akinori Maeda(Aichi Institute of Technology),Yoshiyuki Uchida(Aichi Institute of Technology),Kenzo Kojima(Aichi Institute of Technology),Asao Ohashi(Aichi Institute of Technology),Shizuyasu Ochiai(Aichi Institute of Technology)

キーワード: ホスト?ゲスト非線形光学薄膜|ターシャリブチルバナジルフタロシアニン|有機ガス処理|VIS/UVスペクトル|３次非線形光学特性

要約(日本語): 　ホスト?ゲスト非線形光学薄膜は、他の非線形光学薄膜よりも加工性、量産性、経済性に優れている。しかしその反面、樹脂にゲスト分子を分散させて作るため、分子配向性が悪い。そこで、膜を有機ガスで処理すると、ゲスト分子の結晶構造が転移し、非線形光学特性が向上する。　今回は、ゲスト分子の大きさが異なる２種類の試料を作製し、有機ガス処理を施した時の３次非線形光学特性について比較検討を行った。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 67 Kバイト