酸化亜鉛薄膜-酸化銅薄膜の積層構造作成

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-138

グループ名: 【全国大会】平成12年電気学会全国大会論文集

発行日: 2000/03/21

タイトル(英語): Preparation of Zinc Oxide-Cupper Oxide Stacked Structure

著者名: 松下 裕之(信州大学),松井 俊幸(信州大学),原山 清人(信州大学),中尾 眞人(信州大学),上村 喜一(信州大学),小沼義治 (信州大学)

著者名(英語): Hiroyuki Matusita(Shinshu University),Toshiyuki Matui(Shinshu University),kiyohito Harayama(Shinshu University),Masato Nakao(Shinshu University),Kiichi Kamimura(Shinshu University),Yoshiharu Onuma(Shinshu University)

キーワード: 酸化物|薄膜|センサ|酸化亜鉛|酸化銅

要約(日本語): 　酸化亜鉛薄膜は原材料が安価で可視光率が高く、低温で生成できるなどの特徴を持っているため、液晶ディスプレイや薄膜太陽電池などの透明電極に用いられ、また、ガス吸着特性を利用したセンサ用材料として注目されている。ZnO膜は結晶の生成過程で金属原子が過剰となりやすく、不純物添加によってn形半導体性を示し、その抵抗率制御を行っている。　一方、酸化銅薄膜は金属空孔がアクセプタとして働くp形導電性を示す材料の一つである。　本研究では酸化亜鉛-酸化銅薄膜の積層構造の作成を行い、単独で用いる以上の感度を持つガスセンサ用デバイスを開発する基礎実験を行った。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 54 Kバイト