平坦化処理プロセスと磁気異方性の制御を適用したRF集積化インダクタ

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-191

グループ名: 【全国大会】平成12年電気学会全国大会論文集

発行日: 2000/03/21

タイトル(英語): RF Integrated Inductors Using Surface Planarization Technique and Control Magnetic Anisotropy

著者名: 馬場誠 (東北大学),末沢健吉 (東北大学),茂泉孝 (東北学院大学),山口正洋 (東北大学),荒井賢一 (東北大学),芳賀昭 (東北学院大学),島田寛 (東北大学),田邉信二 (三菱電機),伊東健治 (三菱電機)

著者名(英語): マコト (Tohoku University),ケンキチ (Tohoku University),タカシ (Tohoku-Gakuin University),マサヒロ (Tohoku University),ケンイチ (Tohoku University),アキラ (Tohoku-Gakuin University),ユタカ (Tohoku University),シンジ (Mitsubishi Electric Corporation),ケンジ (Mitsubishi Electric Corporation)

キーワード: 薄膜インダクタ|RF集積回路|CoNbZr薄膜|微細パターン|平坦化

要約(日本語): 磁性薄膜インダクタの空心コイルに対するインダクタンスの増加量はシミュレーションにより理論的に予想される値よりも小さい。この原因の1つは磁性膜の下地に絶縁膜として用いているポリイミドの段差と考えられるため、これを除去した。これによりインダクタンスは増加したが、強磁性共鳴周波数は低下した。この原因はポリイミドの膜厚と磁性膜に施したスリット寸法の2つの要因を考えている。またコイル4辺において励磁方向と磁性膜の磁化困難軸方向を一致させるために、磁性膜をマイクロパターン化し、反磁界で磁性膜の磁化容易軸方向を制御すること試みた。その途中工程である異方性磁界を45°傾けたものにおいて1GHzでのインダクタンスを空心コイルに対して52%増加させることができた。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 307 Kバイト