ＳｉＯ２膜の水による劣化特性

カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-018

グループ名: 【全国大会】平成12年電気学会全国大会論文集

発行日: 2000/03/21

タイトル(英語): Deterioration of SiO2 film at high humidity

著者名: 大矢将慶 (大阪工業大学),松岡毅至 (大阪工業大学),八木謙一 (大阪工業大学),越智完好 (大阪工業大学),吉田國雄 (大阪工業大学),葛生伸 (福井大学),神村共住 (大阪大学)

著者名(英語): Masayoshi Ohya(Osaka Institute of Technology),Matuoka/Takashi (Osaka Institute of Technology),Yagi/Kenichi (Osaka Institute of Technology),Ochi/Kanyoshi (Osaka Institute of Technology),Yoshida/Kunio (Osaka Institute of Technology),Kuzuu/Nobu (Fukui University),Kamimura/Tomozumi (Osaka University)

キーワード: 光学薄膜|SiO2膜

要約(日本語): 　光学薄膜は、SiO2、MgF2などの低屈折率物質とTiO2,ZrO2,Ta2O5,HfO2などの高屈折率物質とを交互に積層した誘電体多層膜を用いる。　特に、高出力レーザー用のミラーには膜厚λ／２（λ：レーザー波長）のSiO2または、MgF2をオーバーコートする。このオーバーコート用のSiO2膜は、高湿度下ではレーザー損傷閾値が大きく低下することが分かった。大会では、このSiO2膜の水による劣化について報告する。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 59 Kバイト