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RFマグネトロンスパッタリング法を用いたクロム酸鉛結晶薄膜の作製

RFマグネトロンスパッタリング法を用いたクロム酸鉛結晶薄膜の作製

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カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-151

グループ名: 【全国大会】平成12年電気学会全国大会論文集

発行日: 2000/03/21

タイトル(英語): Epitaxy of Lead Chromate Oxide Thin Films by RF-Magnetron Supttering Method

著者名: 菅 禎彦(関東学院大学),赤川 英幸(関東学院大学),安藤 信彦(関東学院大学),大津 稔(関東学院大学),平松 友康(関東学院大学),金子 文隆(湘南工科大学),難波 典之(関東学院大学)

著者名(英語): Yoshihiko Suga(Kanto-gakuin University),Hideyuki Akagawa(Kanto-gakuin University),Nobuhiko Andou(Kanto-gakuin University),Minoru Ootu(Kanto-gakuin University),Tomoyasu Hiramatu(Kanto-gakuin University),Fumitaka Kaneko(Shonan Institute of Technology),Noriyuki Nanba(Kanto-gakuin University)

キーワード: クロム酸鉛|薄膜|湿度センサ|RFマグネトロンスパッタリング法

要約(日本語): クロム酸鉛について、これまで厚膜による湿度センサの応用、RFマグネトロンスパッタリング法を用いた薄膜の結晶成長を報告した。今回、RFマグネトロンスパッタリング法による薄膜結晶化では、その結晶性が基板温度と高周波電力に強く依存することが観測でき、同一ターゲットからPbCrO4薄膜、Pb2CrO5薄膜、および両者の混合薄膜を作製する際に適切な成長条件を見出す事ができたので報告する。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 55 Kバイト

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