ポリシリコンナノワイヤーピエゾ抵抗素子の製作

カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-157

グループ名: 【全国大会】平成12年電気学会全国大会論文集

発行日: 2000/03/21

タイトル(英語): Fabrication of polycrystalline Si nano wire piezoresistor

著者名: 谷本 靖忠(立命館大学),鳥山 寿之(立命館大学),杉山 進(立命館大学)

著者名(英語): Yasutada Tanimoto(Ritsumeikan University ),Toshiyuki Toriyama(Ritsumeikan University ),Susumu Sugiyama(Ritsumeikan University )

キーワード: ナノワイヤー|ピエゾ抵抗素子|ポリシリコン|EB直接描画

要約(日本語): 本研究は、ポリシリコンのナノスケール化がピエゾ抵抗効果へ及ぼす影響を検討するためにナノワイヤーピエゾ抵抗素子の製作を行った。EBによる直接描画技術とRIEを用いてポリシリコンのナノワイヤー加工を行った。断面が１００×１００nm2、長さが6μmで線幅が結晶粒と同程度のポリシリコンナノワイヤーピエゾ抵抗素子を実現した。ナノワイヤーピエゾ抵抗素子はマイクロオーダのピエゾ抵抗素子と同程度のピエゾ抵抗係数を有し、機械量センサの検出素子として十分に機能することを確認した。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 64 Kバイト