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帯電ジェットとシリコンウェーハの衝突による帯電霧

帯電ジェットとシリコンウェーハの衝突による帯電霧

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カテゴリ: 全国大会

論文No: 4-183

グループ名: 【全国大会】平成12年電気学会全国大会論文集

発行日: 2000/03/21

タイトル(英語): Charged Fog Generated as Highly Charged Jet Impact against Silicon Wafers

著者名: 浅野 一明(神奈川工科大学),下川 博文(神奈川工科大学)

著者名(英語): Kazuaki Asano(Kanagawa Institute of Technology),Hirofumi Shimokawa(Kanagawa Institute of Technology)

キーワード: 帯電霧|シリコンウェーハ|高純水|誘導帯電

要約(日本語): 高速で噴出された水による洗浄が広く行われている。水が分裂することにより発生する微粒子が帯電する。この微粒子の集合を帯電霧と呼ぶ。本研究では容易に酸化膜を形成できるシリコンウェーハと、高純水の高速衝突による帯電霧を対象としている。前報では、流動帯電によるジェットの衝突によって正に帯電した霧が発生し、帯電霧の発生量はウェーハ上で水がの電荷交換による帯電で決まると考察した。今回は強制帯電したジェットを用い、前報のモデルが適用できるか検討した。その結果、帯電霧の電荷量はジェットの帯電に強く依存すること明らかになった。またジェットと霧が同極性であるのに対し、落下する水滴の極性が異なった。これはウェーハの性質や酸化膜厚が原因であると考えられる。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 125 Kバイト

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