平板状消弧室における気流分布と電子密度との関係

カテゴリ: 全国大会

論文No: 6-250

グループ名: 【全国大会】平成12年電気学会全国大会論文集

発行日: 2000/03/21

タイトル(英語): Relationships between Distribution of Airflow Velocity and Electron Density around Current Zero in Flat-Type Arc-Quenching Chamber.

著者名: 岸本 忍(名古屋大学),小林 勝司(名古屋大学),横水 康伸(名古屋大学),松村 年郎(名古屋大学),大野 英之(名城大学)

著者名(英語): Shinobu Kishimoto(Nagoya University),Syoji Kobayashi(Nagoya University),Yasunobu Yokomizu(Nagoya University),Toshiro Matsumura(Nagoya University),Hideyuki Ohno(Meijo University)

キーワード: 電子密度|アーク|気流分布|ノズル|遮断能力

要約(日本語): ガス吹付け型の遮断器では，消弧ガスをアークの軸方向に吹き付け，電流を遮断している。この種の遮断器においては，消弧ガスの流れ状況が遮断アークの特性に影響を与え，ひいては遮断能力に関係を有していると考えられる。今までに，空気吹付け平板状アーク装置において，無負荷時の気流解析と遮断実験を行い，スロートでの気流分布と上流側電極の前面に発生する渦流が遮断限界に大きな影響を与えることを見いだしてきた。今回，この研究の次段階として，遮断性能に大きな影響を与えるスロート部と上流側電極の前面での気流との関係を検討した。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 146 Kバイト