誘導N2熱プラズマ内の粒子密度分布に及ぼす圧力および流量の影響

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-206

グループ名: 【全国大会】平成13年電気学会全国大会論文集

発行日: 2001/03/21

タイトル(英語): Influence of Pressure and Gas Flow Rate on Particle Density Distribution in N₂ Inductively Coupled Plasma

著者名: 田中 康規(金沢大学),作田 忠裕(金沢大学)

著者名(英語): Yasunori Tanaka(Kanazawa University),Tadahiro Sakuta(Kanazawa University)

キーワード: 誘導熱プラズマ|反応速度|圧力|流量|粒子密度分布

要約(日本語): 誘導熱プラズマICTPは高温で反応論的に活性であり，電極からの材料混入がなく純粋なプラズマが発生できるため，様々な材料プロセス分野で応用されている。このようなプロセス分野においては，プラズマ内の電子やラジカル種の分布を詳細に把握することが極めて重要になっている。筆者らはこれまでに誘導N2熱プラズマを対象として18の反応速度を考慮したモデルを構築した。今回，本モデルを用いて，ガス流量・圧力が粒子密度分布に及ぼす影響を検討したので報告する。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 123 Kバイト