窒化炭素CNx作製における照射イオンのエネルギー依存の検討（II）

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-230

グループ名: 【全国大会】平成13年電気学会全国大会論文集

発行日: 2001/03/21

タイトル(英語): Dependence of Irradiated Ion Energy on Carbon Nitride Synthesis(II)

著者名: 浜村 尚樹(武蔵工業大学),小野寺 朋和(武蔵工業大学),岡田 淳(武蔵工業大学),宮沢 英行(武蔵工業大学),湯本 雅恵(武蔵工業大学),堺 孝夫(武蔵工業大学)

著者名(英語): Naoki Hamamura(Musashi Institute of Technology),Tomokazu Onodera(Musashi Institute of Technology),Jun Okada(Musashi Institute of Technology),Hideyuki Miyazawa(Musashi Institute of Technology),Motoshige Yumoto(Musashi Institute of Technology),Takao Sakai(Musashi Institute of Technology)

キーワード: 窒化炭素|イオン照射|加速エネルギー|侵入深さ|XPS角度分解分析

要約(日本語): 窒化炭素CNxはDLCを凌ぐ材料として広く研究されている。著者らはグラファイト基板に窒素イオンを照射することにより窒化炭素膜の作製を行ってきた。その結果、イオンの加速電圧を100eVとしたときにsp3結合が相対的に多くなることが明らかとなった。また、XPS角度分析法により深さ方向の分析を行ったところ、窒素の組成がごく表面付近と表面から数nm内部の領域で増加する分布となり、イオンの侵入深さがごく浅い領域と考えられている0.1～1keVと低エネルギーの領域においてもその形状は加速電圧に依存していることがわかっ

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 231 Kバイト