PLD法によるシリコン薄膜堆積：-膜質のターゲット材料ならびに照射時間依存性-

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-239

グループ名: 【全国大会】平成13年電気学会全国大会論文集

発行日: 2001/03/21

タイトル(英語): Pulsed Laser Deposition of Si Thin Films - Dependence of Film Quality on Target Material and Deposition Time

著者名: 菅沼 由也(北海道大学),須田 善行(北海道大学),菅原 広剛(北海道大学),酒井 洋輔(北海道大学)

著者名(英語): Yuya Suganuma(Hokkaido University),Yoshiyuki Suda(Hokkaido University),Hirotake Sugawara(Hokkaido University),Yosuke Sakai(Hokkaido University)

キーワード: パルスレーザ堆積|シリコン薄膜|ドロプレット

要約(日本語): 高品質のシリコン薄膜堆積技術の一つとして注目されているPLD法を用いて、アモルファスシリコン膜堆積を行った。ターゲットに焼結体のターゲットならびに単結晶シリコンを用い、堆積時間・レーザフルエンスを変えながら堆積を行った。膜の評価にはエリプソメータ・SEM・XPSを用いた。結果として、?フルエンスが3 J/cm^2程度で膜堆積が確認でき、その膜厚は堆積時間に比例した、?単結晶シリコンから堆積された膜にはドロプレットがあまり見られなかったが、焼結体ターゲットからの膜には多くのドロプレットが付着していた。?ドロ

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 338 Kバイト