希ガス混合プラズマの電子温度の制御

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-240

グループ名: 【全国大会】平成13年電気学会全国大会論文集

発行日: 2001/03/21

タイトル(英語): Control of electron temperature on dilution gas plasma

著者名: 池田 正巳(名古屋大学),石島 達夫(名古屋大学),菅井 秀郎(名古屋大学)

著者名(英語): Masami,Ikeda|Tatuo,Ishijima|Hideo,Sugai

キーワード: 電子エネルギー分布関数|Druyvesteyn法|希ガス混合|電子温度の制御

要約(日本語): 高密度プラズマを用いるプロセスにおいて、試料ガスの解離を抑えて化学活性種の組成比を制御するため電子温度を低くすることが求められている。電子温度は圧力だけではなくガス種にも依存し、電子温度Teはイオン化エネルギーが高くなるほど大きくなる傾向があることが知られている。原料ガスを希ガスと混ぜてプロセスに用いる場合も多いので、本研究では希ガスの種類やそれらの混合比によってTeをどこまで制御できるかを調べた。

原稿種別: 日本語

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