パルス重イオンビームの発生と高純度化

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-248

グループ名: 【全国大会】平成13年電気学会全国大会論文集

発行日: 2001/03/21

タイトル(英語): Generation and Purification of Pulse Heavy Ion Beam

著者名: 前坪 洋介(富山大学),土居 弥寿彦(富山大学),遠藤 隆行(富山大学),高尾 和人(富山大学),北村 岩雄(富山大学),高橋 隆一(富山大学),升方 勝己(富山大学),田中 保宣(電子技術総合研究所),田上 尚男(電子技術総合研究所),荒井 和男(電子技術総合研究所)

著者名(英語): Yousuke Maetsubo(Toyama University),Yasuhiko Doi(Toyama University),Takayuki Endo(Toyama University),Kazuto Tako(Toyama University),Iwao Kitamura(Toyama University),Takakazu Takahashi(Toyama University),Katumi Masugata(Toyama University),Yasunobu Tanaka(Erectrotechnical Laboratory),Hisao Tanoue(Erectrotechnical Laboratory),Kazuo Arai(Erectrotechnical Laboratory)

キーワード: パルスパワー|パルス重イオンビーム|磁気絶縁ダイオード|プラズマガン

要約(日本語): パルス重イオンビーム(PHIB)は核融合や材料開発で幅広い応用領域を持つ。我々は半導体へのパルスイオン注入を目的としたPHIBの開発を行っている。パルスイオン注入は、イオン注入とアニール処理が同時に行うことができる新しい注入法である。本研究では、イオン源に炭素同時来るらズマガンを用いたBr型磁気絶縁ダイオード(Br-MID)を開発し、その特性評価を行った。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 84 Kバイト