リソグラフィプロセスの全自動化に関する研究

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-277

グループ名: 【全国大会】平成13年電気学会全国大会論文集

発行日: 2001/03/21

タイトル(英語): A Proposal of Fully Automatic Lithographic Process

著者名: 内田 敬久(名古屋大学),河野 明廣(名古屋大学),堀 勝(名古屋大学),後藤 俊夫(名古屋大学),Rina Sharma(National Physical Laboratory,India),劉京南 (東南大学),打田 雅之(愛知工業大学),古橋 秀夫(愛知工業大学),内田 悦行(愛知工業大学)

著者名(英語): Yoshihisa Uchida(Nagoya University),Akihiro Kono(Nagoya University),Masaru Hori(Nagoya University),Toshio Goto(Nagoya University),Rina Sharma(National Physical Laboratory,India),Jingnan Liu(Southeast University,China),Masayuki Uchida(Aichi Institute of Technology),Hideo Furuhashi(Aichi Institute of Technology),Yoshiyuki Uchida(Aichi Institute of Technology)

キーワード: リソグラフィ|位置決め|自動化|マスク位置合わせ

要約(日本語): 高度情報化社会に対応して半導体集積回路の高密度化はますます進められている。これに対応して製造プロセスも全自動化インテリジェント化されている。本研究ではこのリソグラフィプロセスに対して新たな自動化の提案をするものである。特にマスクとウエハの位置決めについては，今までに差動回折モアレ技術を用いた試作実験で8nmの位置決め精度を実現している。またピッチの異なる２対の回折格子を用いて粗微動の位置決め法を提案してきた。今回は１対の回折格子を用いるだけで粗微動の位置決めを実現するシステムを提案する。そしてハードとソフ

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 113 Kバイト