PVK薄膜の交流絶縁破壊に与える周波数の影響

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-064

グループ名: 【全国大会】平成13年電気学会全国大会論文集

発行日: 2001/03/21

タイトル(英語): Influence of the Frequency on the AC Breakdown of PVK Thin Film

著者名: 畑中 武蔵(信州大学),伊東 栄次(信州大学),宮入 圭一(信州大学)

著者名(英語): Takezo Hatanaka(Shinshu University),Eiji Itoh(Shinshu University),Keiichi Miyairi(Shinshu University)

キーワード: ポリビニルカルバゾール|絶縁破壊の強さ|交流絶縁破壊|周波数|破壊前電流

要約(日本語): 本研究では、光導電性を示しゼログラフィやEL素子などの正孔輸送材料として応用されているポリビニルカルバゾール(PVK)薄膜を使用し、その交流絶縁破壊特性を中心に調査した。これまでに、測定温度内(30℃～180℃)では周波数が低くなるに従い絶縁破壊の強さが低下するという周波数依存性が確認された。これは従来には見出されていない特異な現象である。PVK薄膜については電極から注入されたキャリアの関与が破壊に影響していると考えられる。今回は絶縁破壊に与える周波数の影響とそのメカニズムを検討し報告する。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 118 Kバイト