PMMA/(t-Bu)4CuPc膜の非線形光学特性
PMMA/(t-Bu)4CuPc膜の非線形光学特性
カテゴリ: 全国大会
論文No: 2-126
グループ名: 【全国大会】平成13年電気学会全国大会論文集
発行日: 2001/03/21
タイトル(英語): Nonlinear Optical Properties of PMMA/(t-Bu)4CuPc Film
著者名: 瀧 洋一郎(愛知工業大学),古橋 秀夫(愛知工業大学),吉川 俊夫(愛知工業大学),前田 昭徳(愛知工業大学),大橋 朝夫(愛知工業大学),小嶋 憲三(愛知工業大学),内田 悦行(愛知工業大学),落合 鎮康(愛知工業大学)
著者名(英語): Youichirou Taki(Aichi Insutitute of Technology),Hideo Furuhasi(Aichi Insutitute of Technology),Tosio Yosikawa(Aichi Insutitute of Technology),Akinori Maeda(Aichi Insutitute of Technology),Asao Ohasi(Aichi Insutitute of Technology),Kenzou Kojima(Aichi Insutitute of Technology),Yosiyuki Uchida(Aichi Insutitute of Technology),Sizuyasu Ochiai(Aichi Insutitute of Technology)
キーワード: ターシャリブチルドウフタロシアニン|ポリメタクリル酸メチル|ホストゲスト非線形光学薄膜|第2次高調波|可視紫外吸収スペクトル
要約(日本語): 樹脂分散系であるホストゲスト非線形光学薄膜は、他の非線形光学材料よりも加工性、量産性、経済性などに優れた面を持つ。しかし、ホストゲスト非線形光学薄膜の場合、ホストポリマーとゲスト分子の組み合わせ、更にそれを溶かすための有機溶媒の組み合わせがその性能を大きく左右する。しかし、現状では大きな非線形光学特性を有する系の組み合わせをあらかじめ定量的に選定することは難しく、系の選定は経験によるところが大きい。そこで今回はホストポリマーにPMMA、ゲスト分子に(t-Bu)4CuPcを用いたPMMA/(t-Bu)4Cu
原稿種別: 日本語
PDFファイルサイズ: 83 Kバイト
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