KBr基板上に作製されたVOPc薄膜の有機ガス処理時間依存性

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-133

グループ名: 【全国大会】平成13年電気学会全国大会論文集

発行日: 2001/03/21

タイトル(英語): Time Dependence of Organic Gas Treatment to VOPc Film Prepared on KBr Substrate

著者名: 設楽 俊孝(愛知工業大学),中野 寛之(愛知工業大学),古橋 秀夫(愛知工業大学),吉川 俊夫(愛知工業大学),前田 昭徳(愛知工業大学),内田 悦行(愛知工業大学),大橋 朝夫(愛知工業大学),小嶋 憲三(愛知工業大学),落合 鎮康(愛知工業大学)

著者名(英語): Toshitaka Shidara(Aichi Institute of Technology),Hiroyuki Nakano(Aichi Institute of Technology),Hideo Huruhashi(Aichi Institute of Technology),Toshio Yoshikawa(Aichi Institute of Technology),Akinori Maeda(Aichi Institute of Technology),Yoshiyuki Uchida(Aichi Institute of Technology),Asao Ohashi(Aichi Institute of Technology),Kenzo Kojima(Aichi Institute of Technology),Shizuyasu Ochiai(Aichi Institute of Technology)

キーワード: バナジルフタロシアニン （VOPc)|臭化カリウム基板|有機ガス処理|分子線エピタキシー|第３次高調波|第２次高調波

要約(日本語): MBE法によって作製したVOPc蒸着膜を製膜後に室温有機ガスで処理するというこれまでに用いられなかった新しい手法により、製膜時に生じるミスフィットを解消することに成功した。しかし、この手法も薄膜の膜厚が厚くなると、エピタキシーへ転移できないことが分かった。　これを解消すために、チャンバー内で溶剤に熱を加えガス圧を上げることに注目した。これまでに、溶剤加熱温度75℃における処理が有効であることを報告した。本報告では、75℃における処理時間依存性について検討した。

原稿種別: 日本語

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