塩化カリウム基板上に作製されたバナジルフタロシアニン薄膜の熱処理時間依存性

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-134

グループ名: 【全国大会】平成13年電気学会全国大会論文集

発行日: 2001/03/21

タイトル(英語): Thermal Treated Time Dependence of VOPc Thin Film Prepared on KCl Substrate.

著者名: 伊藤 泰行(愛知工業大学),古橋 秀夫(愛知工業大学),吉川 俊夫(愛知工業大学),前田 昭徳(愛知工業大学),大橋 朝夫(愛知工業大学),内田 悦行(愛知工業大学),小嶋 憲三(愛知工業大学),落合鎮康 (愛知工業大学)

著者名(英語): Yasuyuki Ito(Aich Institute of Technology),Hideo Furuhasi(Aich Institute of Technology),Tosio Yosikawa(Aich Institute of Technology),Akinori Maeda(Aich Institute of Technology),Asao Ohasi(Aich Institute of Technology),Yosiyuki Uchida(Aich Institute of Technology),Kenzo Kojima(Aich Institute of Technology),Sizuyasu Ochai(Aich Institute of Technology)

キーワード: バナジルフタロシアニン|塩化カリウム基板|分子線エピタキシー|第３次高調波|第２次高調波|相遷移

要約(日本語): ＭＢＥ（分子線エピタキシー）法により塩化カリウム基板上にバナジルフタロシアニンを蒸着した。薄膜作製条件を基板温度Ｔｓ：200℃、蒸発源温度Ｔｅ：300℃、蒸着時間ｔ：180min.とし、熱処理時間を試料１から３について、0,180,360min.として、それぞれ製膜した。作製された薄膜をUV/VISスペクトル、SEM（走査形電子顕微鏡）像、RHEED、メーカーフリンジ法による第２次及び第３次高調波測定により薄膜の表面構造と非線形光学特性を検討した。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 78 Kバイト