リアクティブスパッタ法によるイットリア安定化ジルコニア薄膜の基板依存性

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-154

グループ名: 【全国大会】平成13年電気学会全国大会論文集

発行日: 2001/03/21

タイトル(英語): Dependence of Yttria Stablized Zirconia Thin Film obtained by Reactive Sputtering on Substrate

著者名: 松井俊幸 (信州大学),関口和幸 (信州大学),小沼義治 (信州大学),上村喜一 (信州大学),中尾真人 (信州大学)

キーワード: 薄膜|酸化物|スパッタリング|センサ|ジルコニア

要約(日本語): ジルコニアは耐熱性、断熱性、耐食性に優れており、さらに、ある種の安定化剤を添加した安定化ジルコニアは、高強度、強靱性、イオン導電性を示し、断熱材料、燃料電池の固体電解質、ガスセンサなどに広く応用されている。本研究では、ジルコニウム金属板およびイットリア焼結体をターゲットとして、リアクティブスパッタ法により生成したジルコニア薄膜の結晶性および電気的特性の基板依存性について検討した。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 79 Kバイト