表面波プラズマによるシリコン薄膜の高速堆積

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-156

グループ名: 【全国大会】平成13年電気学会全国大会論文集

発行日: 2001/03/21

タイトル(英語): High Speed Deposition of Silicon Thin Film by a Surface Wave Plasma

著者名: 大石 晃宏(名古屋大学),豊田 浩孝(名古屋大学),後藤真志 (松下電気産業),吉田 哲久(松下電気産業),西谷 幹彦(松下電気産業),菅井 秀郎(名古屋大学)

著者名(英語): Akihiro Ohishi(Nagoya University),Hirotaka Toyoda(Nagoya University),Masashi Goto(Masushita Electric Indutrial Corporation),Akihisa Yoshida(Masushita Electric Indutrial Corporation),Mikihiko Nishitani(Masushita Electric Indutrial Corporation),Hideo Sugai(Nagoya University)

キーワード: 表面波プラズマ|シリコン薄膜

要約(日本語): 高密度プラズマ源として注目されている、表面波プラズマを用いたシリコン膜生成の初期実験結果について報告する。実験では石英窓に取り付けたスロットを介してマイクロ波を導入しプラズマを生成する。プラズマ吸収プローブ法を用いてプラズマ密度を測定したところ、マイクロ波電力2kWのH₂プラズマにおいて10¹¹cm^–3台の密度を確認した。次にH₂希釈SiH₄プラズマを用い流量比を変化させてサンプルを作

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 96 Kバイト