レーザ蒸着法によるYBCO高温超電導薄膜成長に及ぼす基板-ターゲット間距離の影響

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-160

グループ名: 【全国大会】平成13年電気学会全国大会論文集

発行日: 2001/03/21

タイトル(英語): The influence of substrate-target distance on the growth of high-Tc superconducting YBCO thin film by pulsed laser deposition

著者名: 山下 大介(九州大学),草野 修(九州大学),吉武 剛(九州大学),植田 清隆(九州大学)

著者名(英語): Daisuke Yamashita(Kyushu University),Osamu Kusano(Kyushu University),Tuyoshi Yosaitake(Kyushu University),Kiyotaka Ueda(Kyushu University)

キーワード: レーザアブレーション|高温超電導|ギャップ長

要約(日本語): 本研究では、PLD(pulsed Laser Deposition)法により、高電磁界中で大きな電流を流すことのできるYBCO超電導体の積層膜を高速に生成することを目的として、電磁界中での新しいレーザ蒸着法を開発する。我々は薄膜作成用真空装置を設計・製作し、まずYBCO薄膜の成長条件を調べたので報告する。今回、応用研究に向け膜生成の主なパラメータの一つである基板とターゲットとの距離(Dt-s)を変化させ、膜質の変化を調べたので報告する。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 405 Kバイト