C-S-Au Composite Film Formed by RF Plasma CVD and Sputtering

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-163

グループ名: 【全国大会】平成13年電気学会全国大会論文集

発行日: 2001/03/21

タイトル(英語): C-S-Au Composite Film Formed by RF Plasma CVD and Sputtering

著者名: Md. Abul Kashem (名古屋大学),松下 雅樹(名南工業高等学校),森田 慎三(名古屋大学)

著者名(英語): Md. Abul Kashem (Nagoya University),masaki Matushita(Meinan Technical High School),Shinzo Morita(Nagoya University)

キーワード: C-S-Au混合膜|ＲＦプラズマＣＶＤ|スパッタリング|屈折率

要約(日本語): Previously C-S compound thin film was formed by RF plasma CVD withusing CH4, SF6 and Ar mixture gas. The refractive index of the film was varied from 2 to 3 with increasing sulfur density from 0 to 30 atomic %. In this work, Au atom was aimed to be in

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 100 Kバイト