Fe-Cu-Nb-Si-B低透磁率薄帯における異方性磁界の熱処理条件依存性

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-204

グループ名: 【全国大会】平成13年電気学会全国大会論文集

発行日: 2001/03/21

タイトル(英語): Effect of Stress-Annealing Conditions on Anisotropy Field of Fe-Cu-Nb-Si-B Ribbons with Low Permeability

著者名: 柳井 武志(長崎大学),田中 博達(長崎大学),高橋賢一郎 (長崎大学),中野 正基(長崎大学),福永 博俊(長崎大学)

著者名(英語): Takeshi Yanai(Nagasaki University),Hirotatsu Tanaka(Nagasaki University),Ken-ichirou Takahasshi(Nagasaki University),Masaki Nakano(Nagasaki University),Hirotoshi Fukunaga(Nagasaki University)

キーワード: クリープ誘導磁気異方性|低透磁率|張力低減|昇温過程

要約(日本語): Fe系コア実用化の為の課題として、“張力あたりの異方性の増加”がある。従来の研究において熱処理温度の増加が異方性の増加に有効であることを確認したが、温度上昇はヒステリシス損失の増加やナノ構造の破壊等を引き起こし、熱処理温度に関してこれ以上の最適化は困難であった。一方、クリープ誘導磁気異方性が熱処理の初期の段階で大きく付与されることが確認され、目標熱処理温度になるまでの昇温過程を検討することで更なる異方性増加が期待できると考えた。そこで本稿では、Fe-Cu-Nb-Si-B薄帯に異方性を付与する熱処理において

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 122 Kバイト