RF方式によるFe-Si-Al-Ni系薄膜の軟磁気特性に及ぼす膜厚依存性

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-205

グループ名: 【全国大会】平成13年電気学会全国大会論文集

発行日: 2001/03/21

タイトル(英語): Influence of Film Thickness on Soft Magnetic Properties of Fe-Si-Al-Ni Thin Films Prepared in RF Plasma

著者名: 有村 唯史(日本大学),新妻清純 (日本大学),移川 欣男(日本大学)

著者名(英語): Tadashi Arimura(Nihon University),Kiyozumi Niizuma(Nihon University),Yoshio Utsushikawa(Nihon University)

キーワード: RFスパッタリング法|薄膜|飽和磁化|保磁力|磁気異方性|比透磁率

要約(日本語): 6.0wt%Si-4.0wt%Al-3.2wt%Ni-bal.Feの組成を有する「スーパーセンダスト(I)（SS(I)）合金」は、バルク状において飽和磁歪λs≒0であり、DO₃型およびB2型規則格子の生成により、優れた軟磁気特性を示すことが知られている。そこで本研究では、Fe-Si-Al-Ni系薄膜の規則格子生成に伴う軟磁気特性の向上を目的として、薄膜作製に最適なガス圧条件のもと種々の膜厚でFe-Si-Al-Ni系薄膜を作製し、膜厚による磁気特性等の違いについて検討した。その結果、膜

原稿種別: 日本語

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