二方向マイクロパターン化磁性膜における熱処理効果

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-217

グループ名: 【全国大会】平成13年電気学会全国大会論文集

発行日: 2001/03/21

タイトル(英語): Effect of annealing in bi-directionally micro-patterned magnetic thin film

著者名: 馬場誠 (東北大学),山口正洋 (東北大学),荒井賢一 (東北大学)

キーワード: 薄膜インダクタ|RF集積回路|CoNbZr薄膜|微細パターン|熱処理|磁区構造

要約(日本語): 1GHzで駆動する磁性薄膜インダクタにおいて、誘導磁気異方性をコイルの向きに対して45°方向に付与したのち、コイルに沿ったマイクロパターン化を行うことにより、コイル上4辺すべてにおいて困難軸励磁が可能となる。しかし、誘導磁気異方性が45°方向からずれて付与されると、コイル2辺上において多磁区構造となり、残りのコイル2辺上においてのみ困難軸励磁となっていた。多磁区構造を単磁区構造にする手段として45°方向への静磁界中熱処理を用いることにより、コイル4辺上すべてにおいて単磁区構造が得られ、困難軸励磁となること

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 178 Kバイト