紫外域レーザ用光学薄膜の開発(1)-多孔性反射防止膜-

カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-015

グループ名: 【全国大会】平成13年電気学会全国大会論文集

発行日: 2001/03/21

タイトル(英語): Development of Optical Thin Film for UV Laser (1)‐Porous AR Coating‐

著者名: 波戸岡 和也(大阪工業大学),大矢将慶 (大阪工業大学),長谷川 徹(大阪工業大学),松岡 毅至(大阪工業大学),八木 謙一(大阪工業大学),越智 完好(大阪工業大学),吉田 國雄(大阪工業大学),砂川 道夫(エスバック),神村 共住(大阪大学)

著者名(英語): Kazuya Hatooka(Osaka Institute of Technology),Masayoshi Ohya(Osaka Institute of Technology),Toru Hasegawa(Osaka Institute of Technology),Takashi Matsuoka(Osaka Institute of Technology),Ken-ichi Yagi(Osaka Institute of Technology),Kanyoshi Ochi(Osaka Institute of Technology),Kunio Yoshida(Osaka Institute of Technology),Michio Sunagawa(S☆VAC),Tomosumi Kamimura(Osaka University)

キーワード: 紫外波長域レーザ|物理蒸着法|化学処理法|多孔性AR膜|屈折率勾配|石英ガラス基板

要約(日本語): 紫外波長レーザ用反射防止膜として、物理蒸着法と化学処理法とを併用した方法により屈折率勾配を持つ多孔性のフッ化物膜を世界ではじめて開発した。石英ガラス基板上に製作したYAGレーザの4倍高調波用の多孔性AR膜の反射率は0.35％であった。この多孔性のフッ化物膜は再現性よく製作でき、かつ低い反射率のAR膜というのが特徴である。また、他のフッ化物を用いた多孔性膜を製作中である。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 83 Kバイト