紫外域レーザ用光学薄膜の開発(2)- 酸化物蒸着膜 -

カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-016

グループ名: 【全国大会】平成13年電気学会全国大会論文集

発行日: 2001/03/21

タイトル(英語): Development of Optical Thin Films for UV laser (2)- Oxide Deposited Films -

著者名: 長谷川徹 (大阪工業大学),大矢将慶 (大阪工業大学),波戸岡和也 (大阪工業大学),松岡毅至 (大阪工業大学),八木謙一 (大阪工業大学),越智完好 (大阪工業大学),吉田國雄 (大阪工業大学),藤原閲夫 (姫路工業大学),神村共住 (大阪大学)

キーワード: RFマグネトロンスパッタ|付着力|紫外レーザ用蒸着材料|Nd:YAGレーザ|第3高調波|レーザ損傷テスト

要約(日本語): RFマグネトロンスパッタ法による蒸着は電子ビーム蒸着法と比べると付着力が強いため剥離に強い薄膜を製作することができる。今回、紫外レーザー用蒸着材料としてHfO₂、SiO₂、Al₂O₃を選び、RFマグネトロンスパッタ装置を用いて材料ごとに蒸着条件を変えた単層膜（λ／４：λ＝355ｎm）を複数枚蒸着した。Nd:YAGレーザーの第3高調波(波長355nm)を用いてレーザー損傷テストを行い、RFマグネトロンスパッタ法による蒸着

原稿種別: 日本語

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