水熱合成法によるPZT薄膜成膜時の洗浄プロセスの改善

カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-165

グループ名: 【全国大会】平成13年電気学会全国大会論文集

発行日: 2001/03/21

タイトル(英語): A rinse process improvement of hydrothermal method to deposit PZT thin film

著者名: 小林 豊(東京工業大学),神田 岳文(東京大学),黒澤 実(東京工業大学),樋口 俊郎(東京大学)

著者名(英語): Yutaka Kobayashi(Tokyo Institute of Technology),Takefumi Kanda(The university of Tokyo),Minoru Kurosawa(Tokyo Institute of Technology),Toshiro Higuchi(The university of Tokyo)

キーワード: PZT薄膜|圧電薄膜|水熱法|トランスデューサー

要約(日本語): PZT薄膜を成膜する水熱合成法はこれまで様々な改良が加えられてきた。しかしながら圧電定数等に関してはバルクのPZTと比較して十分に性能が良いとは言えなかった。今回成膜前のチタン基板の洗浄方法、および一度成膜が終了したサンプルの次回成膜開始前での洗浄方法について検討し、また1回目の反応温度を変化させた。その結果5V_p-p印加時の振動速度が従来0.1m/sであったのが0.2m/sとなり、振動特性を改善することが出来たので報告を行う。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 113 Kバイト