リソグラフィーによりNb蒸着膜に導入した周期的な人工磁束ピンニングセンターの効果

カテゴリ: 全国大会

論文No: 5-229

グループ名: 【全国大会】平成13年電気学会全国大会論文集

発行日: 2001/03/21

タイトル(英語): Effect of periodic Flux Pinning Centers in Evaporated Nb Films by the Lithography

著者名: 山田 博(山口大学),岩本 忠司(山口大学),原田 直幸(山口大学),津田 理(山口大学),浜島高太郎 (山口大学)

著者名(英語): Hiroshi Yamada(Faculty fo Engineering,Yamaguhci University),Tadashi Iwamoto(Faculty fo Engineering,Yamaguhci University),Naoyuki Harada(Faculty fo Engineering,Yamaguhci University),Makoto Tsuda(Faculty fo Engineering,Yamaguhci University),Takataro Hamjima(Faculty fo Engineering,Yamaguhci University)

キーワード: 磁束ピンニング|人工ピンニングセンター|Nb薄膜|磁化ヒステリシス|リソグラフィー

要約(日本語): 超伝導材料を導体として用いるには高電流密度化が必要である。臨界電流密度は磁束ピンニングセンターの分布や形状に依存する。ピンニングセンターを人工的に導入する手法の一つとしてリソグラフィー技術を著者らは提案している。このフォトリソグラフィー技術を用いて、Nb薄膜にピンニングセンターとして周期的な溝および正方格子状の穴を加工した。ここで微細加工によって生じる磁束ピン止め効果を評価するために溝および穴の加工深さを変化させた。Nb薄膜の作製には、超高真空電子ビーム蒸着装置を使用した。RHEED、SEM、XRDより平滑で粒界のみられないNb単結晶膜であることを確認した。臨界温度8.2K近傍における磁化測定を行った結果、周期的な溝および穴を加工した試料で磁束ピンニングにより磁化曲線のヒステリシスが大きくなった。また、これらの磁化ヒステリシスは溝および穴の加工深さに依存性があることを確認した。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 371 Kバイト