汚損沿面の乾燥帯形成における汚損度と湿潤率の影響
汚損沿面の乾燥帯形成における汚損度と湿潤率の影響
カテゴリ: 全国大会
論文No: 7-065
グループ名: 【全国大会】平成13年電気学会全国大会論文集
発行日: 2001/03/21
タイトル(英語): Influence of Pollution Severity and Wetting Rate on Dryband Formation of a Polluted Insulator Surface
著者名: 小島 貴志(横浜国立大学),王剛 (横浜国立大学),長谷川 宏一(横浜国立大学),山田 博(横浜国立大学),尾崎 忠義(横浜国立大学),西村 誠介(横浜国立大学)
著者名(英語): Takashi Kojima(Yokohama National University),Gang Wang(Yokohama National University),Koichi Hasegawa(Yokohama National University),Hiroshi Yamada(Yokohama National University),Tadayoshi Ozaki(Yokohama National University),Seisuke Nishimura(Yokohama National University)
キーワード: がいし|汚損|漏れ電流|乾燥帯|湿潤|温度分布
要約(日本語): 外部絶縁の汚損問題は合理的で信頼性の高い電力供給を実現する上で避けられない課題の一つである。汚損フラッシオーバ発生機構は乾燥帯の形成をその発端とし、これを橋絡する局部アークの発生から伸展、そしてフラッシオーバへと至るものである。これまで、フラッシオーバ直前の過程については多くの研究によりそのメカニズムが解明されてきたが、初期段階である乾燥帯の生成過程については十分な調査がされていない。本論では乾燥帯に関する基礎的事項の調査のため、汚損沿面状態を再現したモデル実験からその表面温度分布を測定し、形成される乾燥帯の特性について、汚損度、湿潤程度、印加電圧の各パラメータとの関連性を中心に検討した。
原稿種別: 日本語
PDFファイルサイズ: 133 Kバイト
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