低真空アーククリーニングの溶射前処理への適用

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-127

グループ名: 【全国大会】平成14年電気学会全国大会論文集

発行日: 2002/03/26

タイトル(英語): Application of Low Vacuum Arc Cleaning for Pre-treatment of Plasma Spray

著者名: 久保 祐也(中央大学),前園 悟(中央大学),武田 紘一(秋田県立大学),戸部 省吾(足利工業大学),稲葉 次紀(中央大学)

著者名(英語): Yuya Kubo(Chuo University),Satoru Maezono(Chuo University),Koichi Takeda(Akita Prefectural University),Shogo Tobe(Ashikaga Institute of Technorogy),Tsuginori Inaba(Chuo University)

キーワード: 低真空アーククリーニング|陰極点|プラズマ溶射|密着強度

要約(日本語): 溶射前段階において溶射皮膜と基材の密着強度を向上させるため，基材表面を清浄化するため,ブラスト等による前処理は必須である。また,近年低真空アーククリーニング法が提案されており,低真空下でのアーク放電の陰極点移動現象を利用して表面層を除去する試みがなされている。低真空アークの性質から除去された表面はブラストや化学除染とは異なる表面粗さを持つ。本論文ではこの低真空アーククリーニング現象を用いて,プラズマ溶射の基材前処理への適用を試みた。密着強度を測定するため規格試験片に低真空アーク処理を行い, 基材表面の粗さ特性と密着強度を評価している。結果として本適用が可能であることが明らかになった。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 155 Kバイト