放電処理された高分子材料表面のフォトルミネセンスによる解析-励起波長によるPLスペクトルの変化-

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-140

グループ名: 【全国大会】平成14年電気学会全国大会論文集

発行日: 2002/03/26

タイトル(英語): Analysis of Photoluminescence on Polystyrene Surface by Plasma Processing- Change of PL Spectrum by Excitation Wavelength -

著者名: 北川 元(武蔵工業大学),湯本 雅恵(武蔵工業大学),堺 孝夫(武蔵工業大学)

著者名(英語): Gen Kitagawa(Musashi Institute of Technology),Motoshige Yumoto(Musashi Institute of Technology),Takao Sakai(Musashi Institute of Technology)

キーワード: 放電処理|フォトルミネセンス|ポリスチレン|ポリ4ハイドロキシルスチレン|極性基|水酸基

要約(日本語): 放電処理による高分子材料表面の変化をその場検出する為に、フォトルミネセンスが有効である事を報告してきた。今回は、検出対象によって励起波長を選択すれば、より敏感な検出が可能になると考え、励起波長に注目した。放電処理によって導入される極性基の中で、特に水酸基に着目し、試料としてポリスチレン(Polystyrene)及びポリ4ハイドロキシルスチレン(Poly 4-Hydroxyl Styrene)の粉末試料を使用した。この二種類の試料を用いて、励起波長を変化させたときのフォトルミネセンスの変化を観測した結果を、報告する。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 131 Kバイト