高E/n領域の放電によるPTFEの表面処理-処理後の放置時間に対する表面特性の変化-

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-141

グループ名: 【全国大会】平成14年電気学会全国大会論文集

発行日: 2002/03/26

タイトル(英語): Surface Processing of PTFE under High E/n Condition ?Time Dependence of Chemical Property on Surface after Processing?

著者名: 浜村 尚樹(武蔵工業大学),齋藤 洋介(武蔵工業大学),湯本 雅恵(武蔵工業大学),堺 孝夫(武蔵工業大学)

著者名(英語): Naoki Hamamura(Musashi Institute of Technology),Yousuke Saito(Musashi Institute of Technology),Motoshige Yumoto(Musashi Institute of Technology),Takao Sakai(Musashi Institute of Technology)

キーワード: 高E/n放電|PTFE|表面処理|深さ方向分析|放置時間

要約(日本語): 著者らは、窒素雰囲気中の高E/n放電を用いて安定な高分子材料として知らるPTFEの表面処理において、深さ方向の反応過程に注目してXPS角度分析法による分析を行ってきた。その結果、試料表面には酸素含有と窒素含有の極性基が導入されることや、活性化した試料表面が酸・アルカリに対しても安定な状態を維持していることを報告してきた。ところで、プラズマで処理した試料を放置すると表面エネルギーが退行することが知られている。今回の報告では試料表面の安定性を知るため、化学修飾法による極性基の特定と深さ方向の組成分析を行い、処理後の試料の放置時間に対する表面エネルギーや組成変化を求めた結果をまとめる。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 151 Kバイト