窒化炭素（CNx）作製における照射イオンエネルギー依存性；深さ方向の分析

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-162

グループ名: 【全国大会】平成14年電気学会全国大会論文集

発行日: 2002/03/26

タイトル(英語): Dependence of Irradiated Ion Energy on Carbon Nitride Synthesis;Depth Profile of Sample

著者名: 金井 弘士(武蔵工業大学),城ヶ野晃久 (武蔵工業大学),神谷 準(武蔵工業大学),浜村 尚樹(武蔵工業大学),湯本 雅恵(武蔵工業大学),堺 孝夫(武蔵工業大学)

著者名(英語): Hiroshi Kanai(Musashi Institute of Technology),Teruhisa Jyougano(Musashi Institute of Technology),Jyun Kamiya(Musashi Institute of Technology),Naoki Hamamura(Musashi Institute of Technology),Motoshige Yumoto(Musashi Institute of Technology),Takao Sakai(Musashi Institute of Technology)

キーワード: 窒化炭素|イオン照射|深さ方向分析|窒素イオン|エネルギー分布

要約(日本語): アモルファスの窒化炭素（CNx）は、Diamond-Like-Carbon(DLC)に比べ高硬度、高摩耗抵抗の特徴があり、熱伝導率や化学的安定性の面においても優れた材料として期待されている。著者らは、加速した窒素イオンをグラファイト基板に照射した際の反応過程に注目し、XPS角度分析法により深さ方向の分析を行った。その結果、窒素の分布は表面付近と表面から数nm内部の領域で増加する分布となった。また、その形状は、照射イオンのエネルギーに依存することを報告してきた。今回の報告では、照射イオンのエネルギー分布を考慮し、分布形状について再検討を行うことを予定している。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 122 Kバイト