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レーザアブレーション法によるダイヤモンド状炭素成膜 -直流放電と高周波放電によるエッチング-

レーザアブレーション法によるダイヤモンド状炭素成膜 -直流放電と高周波放電によるエッチング-

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カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-165

グループ名: 【全国大会】平成14年電気学会全国大会論文集

発行日: 2002/03/26

タイトル(英語): Synthesis Technique of Diamond-like Carbon Films by YAG Laser Ablation Method -Etching by direct-current electric discharge and high frequency electric discharge-

著者名: 工藤 智彦(日本大学),鈴木 薫(日本大学)

著者名(英語): Tomohiko Kudo(Nihon University),Kaoru Suzuki(Nihon University)

キーワード: ダイヤモンド状炭素|エッチング

要約(日本語): ダイヤモンド状炭素薄膜はエレニクトロニクス部品の材料として注目され、薄膜の人工合成の研究が進んでいる。成膜方法としてレーザアブレーション法が挙げられる。従来成膜においては不活性ガスを用いていたが、酸素等のプラズマを発生させてエッチングを行いながらDLCの成膜を行うことによって、グラファイト成分の除去ができるのではないかと考えた。そこで直流放電、高周波放電によるエッチングの効果について検討している。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 150 Kバイト

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