パルス変調Ar-H2 誘導熱プラズマトーチ下流域におけるスペクトル強度の電流変調率依存性

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-169

グループ名: 【全国大会】平成14年電気学会全国大会論文集

発行日: 2002/03/26

タイトル(英語): Spectroscopic Observation at Downstream Position of Pulse Modulated Ar-H₂ Induction Thermal Plasma Torch

著者名: 飛弾 繁夫(金沢大学),西田 幸司(金沢大学),田中 康規(金沢大学),作田 忠裕(金沢大学)

著者名(英語): Hida Shigeo(Kanazawa University),Nishida Kouji(Kanazawa University),Tanaka Yasunori(Kanazawa University),Sakuta Tadahiro(Kanazawa University)

キーワード: パルス変調誘導熱プラズマ|電流変調率

要約(日本語): 筆者らはコイル電流にパルス的にAM変調を加えた「パルス変調誘導熱プラズマ（PMITP）」を開発している。しかし，材料プロセスにおいては，プラズマトーチ下部の冷却部における温度および各種粒子密度変化とそれらの時間的平均値が材料形成に大きな影響を及ぼすため，極めて重要と考えられる。そこで本報告では，プラズマトーチ下部から80 mmの位置におけるチャンバ内での各スペクトル強度の時間平均値を測定し，その電流変調率SCL依存性を検討した。その結果、Ar ICPにH₂ガスを混入した場合，ArおよびHaの放射強度ともSCLの低下に伴い大きくなるが，SCL = 60 %で極値となり，その後また小さくなっていく。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 174 Kバイト