高性能容量結合型プラズマ発生装置の開発

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-170

グループ名: 【全国大会】平成14年電気学会全国大会論文集

発行日: 2002/03/26

タイトル(英語): Development of High Performance Capacitive Coupled Plasma Device

著者名: 林 昌宏(名古屋大学),大野哲靖 (名古屋大学),高村 秀一(名古屋大学),師岡 久雄(TDK),山田 寛(TDK)

著者名(英語): Yoshihiro Hayashi(Nagoya University),Noriyasu Ohno(Nagoya University),Shuichi Takamura(Nagoya University),Hisao Morooka(TDK),Hiroshi Yamada(TDK)

キーワード: プラズマ|容量結合型|磁場

要約(日本語): 平行平板型容量結合型放電は構造が単純であり、プラズマプロセスに広く用いられている。通常の容量結合型装置を改良することで低ガス圧下での高密度プラズマの生成が実現できれば、低コストでプロセスの高効率化が実現できる。本研究では、容量結合型放電にカスプ磁場とマグネトロン磁場を組み合わせることにより、通常の容量結合放電よりも低ガス圧下で高密度プラズマの生成を試みた。実験では、磁場を組み合わせた場合と平行平板型容量結合型放電についてArプラズマを生成し、プローブ計測によるプラズマパラメータの比較を行った。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 124 Kバイト