紫外線照射下における高分子フィルム/電極界面の残留電荷密度の減衰特性

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-073

グループ名: 【全国大会】平成14年電気学会全国大会論文集

発行日: 2002/03/26

タイトル(英語): Transient Residual Charge Density at The Polymer-film/Disk-electrode Interface under UV Irradiation

著者名: 荒谷 洋平(愛媛大学),門脇 一則(愛媛大学),西本 榮(愛媛大学),木谷 勇(愛媛大学)

著者名(英語): Yohei Aratani(Ehime University),Kazunori Kadowaki(Ehime University),Sakae Nishimoto(Ehime University),Isamu Kitani(Ehime University)

キーワード: パルス静電応力法|音響インピーダンス|紫外線照射|残留電荷|高分子

要約(日本語): パルス静電応力法による空間電荷分布測定において試料/電極界面の電荷の存在を調べるには優れた分解能が必要となる。我々はこれまでこの手法において界面に音響的不整合を持たせることにより電極電荷と分離して試料表面の電荷を測定できることを報告してきた。今回、紫外線照射下での界面における残留電荷密度の過渡的変化を調べた。その結果、短絡後において試料表面に紫外線照射すると残留電荷密度の減衰が確認された。その減衰が収束した電荷密度から残留電荷の存在する準位を求めた。また、あらかじめ紫外線により表面を劣化させた試料の場合、その収束する電荷密度は異なり、照射時間により試料表面の残留電荷は異なる準位に存在することが推察された。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 145 Kバイト