PMMA薄膜の交流絶縁破壊におけるLiClO4イオン添加の影響

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-082

グループ名: 【全国大会】平成14年電気学会全国大会論文集

発行日: 2002/03/26

タイトル(英語): Influence of LiClO₄ doping on the AC Breakdown of PMMA Thin Film

著者名: 夜久昌司 (信州大学),伊東 栄次(信州大学),宮入 圭一(信州大学)

著者名(英語): Masashi Yaku(Shinshu University),Eiji Itoh(Shinshu University),Keiichi Miyairi(Shinshu University)

キーワード: 交流絶縁破壊|PMMA|薄膜|イオン性不純物

要約(日本語): ポリメタクリル酸メチル（PMMA)は、透明で電気絶縁材料として幅広く使用されている。本研究では、イオン性不純物として、イオン移動度が高いことで知られているLi^＋イオンを含む、LiClO₄をドーピングして、スピンコート法を用い、薄膜素子を作成し、交流絶縁破壊実験を行ない、絶縁破壊の強さ（Fb）を調査した。また、分極現象や電気伝導と関連させて検討を行なった。周波数依存性という面では、ガラス転移温度（Tg)である、120℃前後以下では高周波になるほど、Fbが上昇し、Tg以上では高周波になるほど、Fbが下降する。そして、イオンの濃度を増すごとに、Fbは低下する事も、確認された。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 155 Kバイト