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ゾル‐ゲル法によるPZT薄膜の作製及び誘電特性

ゾル‐ゲル法によるPZT薄膜の作製及び誘電特性

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カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-088

グループ名: 【全国大会】平成14年電気学会全国大会論文集

発行日: 2002/03/26

タイトル(英語): Preparation and Characteristic Analysis of PZT Thin Film Made by Sol-Gel Method

著者名: 余峰 (秋田大学),吉村 昇(秋田大学)

著者名(英語): Feng Yu(Akita University),Noboru Yoshimura(Akita University)

キーワード: ゾル‐ゲル法|ジルコン酸チタン酸鉛|強誘電体|薄膜

要約(日本語): 実験室でゾル‐ゲル法によるPZT薄膜を作製した。複数回のコーティングと有機物質の蒸発を繰り返して厚さが50ミクロメータまでの厚膜を得られた。SEM画像から見ると、薄膜は緻密な構造になっていることがわかった。測定温度によるPZT薄膜の誘電率を測定した。薄膜のキュリー点は500度の付近に現れた。周波数による薄膜の誘電率と誘電損失を測定した。周波数が増加すると誘電率が減少し、誘電損失の増加することがわかった。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 224 Kバイト

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