異なる基板上に製膜されたバナジルフタロシアニン薄膜の非線形光学特性と薄膜成長過程
異なる基板上に製膜されたバナジルフタロシアニン薄膜の非線形光学特性と薄膜成長過程
カテゴリ: 全国大会
論文No: 2-145
グループ名: 【全国大会】平成14年電気学会全国大会論文集
発行日: 2002/03/26
タイトル(英語): Glowing Process and Nonlinear Optical Properties of VOPc Thin Film Prepared on Difference Substrates
著者名: 蒋琴 (愛知工業大学),伊藤 泰行(愛知工業大学),澤 五郎(愛知工業大学),内田 悦行(愛知工業大学),大橋 朝夫(愛知工業大学),小嶋 憲三(愛知工業大学),落合 鎮康(愛知工業大学)
著者名(英語): Qin Jiang(Aichi Institute of Technology),Yasuyuki Ito(Aichi Institute of Technology),Goro Sawa(Aichi Institute of Technology),Yosiyuki Uchida(Aichi Institute of Technology),Asao Ohashi(Aichi Institute of Technology),Kenzo Kojima(Aichi Institute of Technology),Shiuyasu Ochiai(Aichi Institute of Technology)
キーワード: 塩化ナトリウム|塩化カリウム|分子線エピタキシー
要約(日本語): 分子線エピタキシー(MBE)法により塩化ナトリウム(NaCl)基板及び塩化カリウム(KCl)基板上にバナジルフタロシアニン(VOPc)分子を蒸着した。使用基板は劈開したのち、蒸着装置内において真空中150℃で60min.の予備加熱を行い基板の蒸着面に付着した吸着ガスを除去した。蒸着材料であるVOPcは蒸着装置内において真空中300℃で120min.の予備加熱を行った。蒸着条件は試料1, 2 (NaCl)と3, 4 (KCl)について蒸着時間を180min.とした。蒸着後に引き続き装置内で熱処理を試料1,3に180min.、試料2,4に360min.施した。なお、蒸着中の真空度は10-7Paである。製膜された各試料のUV/VISスペクトル、メーカーフリンジ法によるSH強度及びTH強度の入射角依存性の測定、SEM観察から薄膜の非線形光学特性及び薄膜成長を検討した。
原稿種別: 日本語
PDFファイルサイズ: 176 Kバイト
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