異なる高分子を用いたホスト-ゲスト膜の形態と非線形光学特性

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-146

グループ名: 【全国大会】平成14年電気学会全国大会論文集

発行日: 2002/03/26

タイトル(英語): Nonlinear Optical Properties and Morphologies of Host-Gest Film Prepared with Different Polymers.

著者名: 田上 学(愛知工業大学),瀧 洋一郎(愛知工業大学),吉川 俊夫(愛知工業大学),前田 昭徳(愛知工業大学),大橋 朝夫(愛知工業大学),小嶋 憲三(愛知工業大学),内田 悦行(愛知工業大学),落合 鎮康(愛知工業大学)

著者名(英語): Manabu Tanoue(Aichi Institute of Technology),Yoichirou Taki(Aichi Institute of Technology),Toshio Yoshikawa(Aichi Institute of Technology),Akinori Maeda(Aichi Institute of Technology),Asao Ohashi(Aichi Institute of Technology),Kenzo Kojima(Aichi Institute of Technology),Yoshiyuki Uchida(Aichi Institute of Technology),Shizuyasu Ochiai(Aichi Institute of Technology)

キーワード: ホストーゲスト膜|ターシャリブチルバナジルフタロシアニン|有機ガス処理|第3次高調波|非線形光学特性

要約(日本語): 樹脂分散系であるホスト?ゲスト非線形光学薄膜は、他の非線形光学材料よりも加工性、量産性、経済性など優れた面をもつ。しかし、ホスト?ゲスト非線形光学薄膜の場合、ホストポリマーとゲスト分子の組み合わせ、更にそれを溶かすための有機溶媒の組み合わせがその性能を大きく左右する。今回はゲスト分子に(t-Bu)1.4VOPc、ホストポリマーに異なる高分子を用いたホスト?ゲスト非線形光学薄膜を作製し、その分散性及び非線形光学特性について報告する。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 159 Kバイト