レーザアブレーション法によるオキシサルファイドの薄膜化

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-152

グループ名: 【全国大会】平成14年電気学会全国大会論文集

発行日: 2002/03/26

タイトル(英語): Preparation Technique of Oxysulfides Films by the laser Ablation method

著者名: 小林 将太郎(日本大学),鈴木 薫(日本大学)

著者名(英語): Shotaro Kobayashi(Nihon University),Kaoru Suzuki(Nihon University)

キーワード: オキシサルファイド|レーザアブレーション法

要約(日本語): 熱エネルギーを電気エネルギーに直接変換する熱電材料は、小型、高信頼性、長寿命などの特徴を持ち、熱電発電やセンサなどに利用されている。しかし、発電効率が5～9％と低く、コストが高いなどの問題点があるため、高い発電効率が得られる熱電材料が求められている。この熱電材料としてオキシサルファイドを検討している。今回はYAGレーザによりシリコン基板上に形成した膜の物性について報告する。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 117 Kバイト