RF方式によるFe-Si-Al-Ni系薄膜の軟磁気特性に及ぼすバイアス効果

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-163

グループ名: 【全国大会】平成14年電気学会全国大会論文集

発行日: 2002/03/26

タイトル(英語): Bias Effect on Soft Magnetic Properties of Fe-Si-Al-Ni System Thin Films Prepared in RF Plasma

著者名: 有村 唯史(日本大学),新妻清純 (日本大学),移川 欣男(日本大学)

著者名(英語): Tadashi Arimura(Nihon University),Kiyozumi Niizuma(Nihon University),Yoshio Utsushikawa(Nihon University)

キーワード: 薄膜|バイアス効果|軟磁気特性|スパッタリング|RFプラズマ|熱処理

要約(日本語): 磁気記録の高密度化、高データ転送レート化に伴い、書き込みヘッド用材料の高特性化が望まれている。Fe-Si-Al-Ni系合金は優れた軟磁気特性を有しており、本系の合金を薄膜化することによって様々なデバイスへの応用が期待される。本研究では直流電源をスパッタ装置のアノードとグランド間に接続するだけと簡単に実現できるバイアススパッタリングにおいてガス混入量の制御、応力緩和、柱状晶の生成抑制を目的として、製膜中にバイアス電源のON/OFF制御を行い、バイアス印加層/非バイアス印加層からなる多層膜を作製し軟磁気特性について検討した。その結果、異方性や応力の緩和、保磁力の低下、透磁率の増加などが認められた。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 370 Kバイト